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      • 光催化氧化設備

      光催化氧化設備

      光催化氧化設備是在外界可見光的作用下發生催化作用,以半導體及空氣為催化劑,以光為能量,將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。利用人工紫外線光波作為能源,配合經我公司特殊處理后活性最強、反應效率較高的納米TiO2催化劑,廢臭氣體經過處理后可達到凈化的更理想的效果。

      內容介紹 / introduce
      1、光催化氧化設備原理
      光催化氧化設備是在外界可見光的作用下發生催化作用,以半導體及空氣為催化劑,以光為能量,將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。利用人工紫外線光波作為能源,配合經我公司特殊處理后活性最強、反應效率較高的納米TiO2催化劑,廢臭氣體經過處理后可達到凈化的更理想的效果。
      2、設備工作條件
      設備工作是氣體環境溫度在攝氏60℃以下、濕度在90%以下、無固體粉塵,處理的成分應當只是氣體,滿足以上三個條件時可以達到不錯的凈化效果,如濕度及溫度過高需作預處理,在廢氣處理過程中不可有固體粉塵及大量水蒸汽進入設備,這樣會直接影響除臭效果,甚至沒有效果,光催化氧化停留時間控制在合理范圍之內。
      3、除臭效果和除臭效率
      能夠去除各種有機廢氣如烴類、醛類、酚類、醇類、硫醇類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類有機物及無機物。對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有很好的去除效果,只要達到一定的反應時間和反應環境配比即可達到完全氧化,可以說氫氧自由基的氧化對象幾乎沒有選擇性,能跟任何現有物質反應。除臭凈化效果可達96%以上。
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